【キーワード】　MOSFET, LSI，成膜と加工プロセス，絶縁膜と結晶薄膜の低温形成，Si，SiGe，Ge、SOI，SGOI，GOI,　接合過渡容量・電流法DLTS,　フォトルミネッセンス法

【研究概要】　情報通信機器の性能向上は、大規模集積回路（LSI）のスケーリング（比例縮小）により達成されてきました。更なる性能向上には、リーク電流を低減するためのSiO2絶縁膜から高誘電率絶縁膜への置き換え、高移動度チャネルを実現するためのSi基板からGe基板への置き換え、等が必須となってきています。本研究室では、次世代半導体技術の要請に応え、その持続的発展を目指し、科学と技術の両面から先端半導体技術を探求しています。具体的には、以下の研究を実施しています。

　1）絶縁膜上のSiGe結晶薄膜形成
　２）Ge上への高誘電率ゲート絶縁膜形成
　３）Ge結晶の表面欠陥および結晶欠陥の物性解明と終端化技術
　４）半導体薄膜結晶の電子・光機能をキャラクラリゼーションする評価技術

半導体と言う産業に近い分野でエキサイティングな研究を皆さんと一緒に行えれば幸いと考えています。

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【キーワード】　機能性ガラス、メソポーラスシリカ、有機・無機ナノコンポジット、透明導電性、発光特性、ナノインプリント、ガラス構造解析、高温融体物性、ガラス製造プロセス、微細加工プロセス

【研究概要】　本領域では、次世代のフォトニクス、エレクトロニクス、バイオ分野を支える有機/無機メソポーラス材料と先端機能性ガラス・セラミックスに関する研究を行っています。具体的にはナノ構造形成のための材料プロセッシングを構築することで、これまでにない新しい機能性発現を目指しています。その基礎的成果を基に，ナノオーダーの微細加工や表示素子、光回路、電子回路、バイオチップ等への実用化に取り組んでいます。

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【キーワード】　有機EL，有機TFT，アナログ回路設計，LSI設計，電子ペーパー，有機ELディスプレイ，フレキシブルディスプレイ，タッチパネル，駆動技術

【研究概要】　本領域では，日本の産業の大きな柱となっているフラットパネルディスプレイ（FPD）の研究・開発に取り組んでいます．現在，具体的に取り組んでいるFPDは「電子ペーパー」と「有機ELディスプレイ」．また，大面積でフレキシブルなディスプレイを作る時に重要な技術となる有機エレクトロニクスの研究も行っています。有機エレクトロニクスは次世代ディスプレイにとって作製コスト・機能面で劇的な変革をもたらす基本要素技術です．新しいディスプレイを生み出すためには材料からシステムまで必要とされる知識の範囲は広いですが、大学での若く柔軟な英知を結集し、新しい切り口で世の中に新しいディスプレイを出していこうと思っています。

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